Установка предназначена для:

• переплава металлов, получения цилиндрических и плоских слитков, а также осуществления других технологических процессов с использованием жидкого металла: послойной кристаллизации, разливки, распыления и т.д.;
• получения массивных композиционных материалов с заданной структурой (дисперсно-упрочненных, микрослойных, микропористых), синтеза различных соединений и неравновесных фаз, в том числе с алмазоподобной структурой, путем испарения и последующей конденсации исходных веществ (металлов и неметаллов);
• осаждения из паровой фазы тонких и толстых покрытий различного назначения на плоские и цилиндрические поверхности, проволоку, ленту, лопатки газовых турбин и другие изделия.

Настоящая установка в отличие от специализированных установок для плавки и испарения материалов обладает рядом конструкционных особенностей, которые позволяют легко перестраивать установку для осуществления вышеуказанных технологических процессов.

Установка имеет шесть электронных пушек конструкции ИЭС им. Е.О. Патона. Пушки двухэлектродные с линейным прямоканальным термокатодом, система управления электронным лучем — электромагнитная. Силовой полупроводниковый источник питания электронных пушек мощностью 250 кВт имеет тиристорное управление, ускоряющее напряжение — 20—25 кВ. Установка может снабжаться двумя силовыми источниками питания.

Система управления установкой включает автоматическую стабилизацию тока электронных пучков и ускоряющего напряжения пушек, стабилизацию уровня ванны кристализующегося слитка и испаряемого материала, датчики контроля температуры поверхности конденсации и др. Указанный комплекс аппаратуры управления и датчиков в сочетании с мини-ЭВМ позволяет осуществить автоматическое управление технологическими процессами электронно-лучевого переплава, испарения и конденсации.