Серийное производство установки плазменного напыления «Киев-7» мощностью 80 кВт в количестве 300 шт. в год было организовано в 1985 г. На Барнаульском аппаратурно-механическом заводе. Ей предшествовала установка высокопроизводительного плазменного напыления «Украина», которая создавалась в начале 1980-х годов совместно Институтом газа НАН Украины и ДонНИИчерметом для нужд предприятий черной металлургии.

В разработке аппарата «Киев-7» принимали участие ИЭС, Институт газа (Киев), ВНИИавтогенмаш (Москва). Основной элемент установки — плазмотрон ПУН-1 (плазмотрон универсальный напылительный) разработан Институтом газа и ИЭС. Плазмотрон выполнен по трехэлектродной схеме с одиночной удлиненной межэлектродной вставкой. На создание установки «Киев-7» с доведением ее до промышленного образца ушло в общей сложности два года.

Установка предназначена для напыления порошковых керамических и металлических материалов с использованием в качестве плазмообразующего газа смеси сжатого воздуха с пропан­бутаном или природным газом (допускается применение азота) с целью получения теплоза­щитных, жаростойких, электроизоляционных, износостойких, антикоррозионных покрытий. Установка обеспечивает получение с высокой производительностью композиционных покрытий из двух питателей по заданному автоматическому режиму, получение многослойных покрытий, изменение концентрации напыляемых порошков материалов по толщине по­крытия от слоя к слою